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二代基因测序芯片(Flowcell)调研-不同厂家产品的键合 ...
二代基因测序芯片(Flowcell)调研-不同厂家产品的键合工艺
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拼潦
2025-6-1 21:26:14
程序园永久vip申请,无限下载程序园所有程序/软件/数据/等
厂家1:
美国Illumina
Flowcell:
芯片结构:
1、Random FC:代表型如Nextseq550,基板-中间层(Dupont TPI,炭黑浸渍或苯基叠氮修饰)-盖板,IR激光键合
2、Patterned FC:代表如Hiseq2000,基板-树脂纳米孔阵列-中间层(Dupont TPI)-树脂纳米孔阵列-盖板,IR激光键合
3、Test FC:MA-61A TM双面胶键合
键合工艺:
1、IR激光键合
2、双面胶键合
代表专利:
(1)Illumina-CN109844638B-压印基板-2017
(2)Illumina-US20240375099A1-Multilayer fluidic devices and methods for their fabrication-2013
(3)US20240390896A1-Interposer with first and second adhesive layers-2024
风险预警:
(1)中间层键合材料(热塑性Kapton KJ和黑色Kapton KJ)不对外出售,国内无替代材料
厂家2:
深圳华大智造
Flowcell:
芯片结构:
1、硅基板(光刻/纳米压印纳米孔阵列)-玻璃盖板,阳极键合
2、硅基板(纳米孔阵列)-薄玻璃盖板(刻蚀流道≥50um),薄盖板CCD点胶键合,UV胶厚度≤50um
3、盖板硅基板-SO2层(34-36um,纳米孔)-薄玻璃盖板(刻蚀流道≥50um),薄盖板CCD点胶键合,UV胶厚度≤50um
4、CMOS芯片,类似于芯像CMOS芯片,CMOS半导体结构层(电路层-堆叠层-传感器层)-介电层(电绝缘层)-图案化层(金属层)-粘接层-玻璃盖板,采用带限高微珠的UV胶键合。
键合工艺:
1、阳极键合
2、刻蚀+UV胶键合
3、刻蚀+多重UV胶键合(防漏液)
4、带限高微珠的UV胶键合
5、双面胶键合
6、工装压紧
代表专利:
(1)CN110387321B-基因测序芯片及基因测序装置--2018
(2)CN110846390A-基因测序芯片封装方法及基因测序芯片
(3)CN117625376A-芯片及其制备方法、试剂盒及其用途-2022
(4)CN117701373A-测序芯片及其制备方法-华大智造-2022
(5)CN118045644A-晶片级测序流通池制造-华大智造-2018
(6)CN118056894A-测序芯片封装方法及测序芯片基板-2022
(7)CN205368331U-核酸测序芯片-华大智造-2016
(8)CN207091399U-一种基因测序芯片-华大智造-2017
(9)CN221765836U-载片装置及荧光检测系统-华大智造-2024
(10)US9803239B2-用于高密度阵列芯片的流通池-2013
风险预警:
(1)阳极键合条件苛刻(高温高压),修饰工艺要变更(后修饰或静电吸附修饰)
(2)点胶键合控制难度高,良率低且不稳定(厚度改变、溢胶变形、胶水污染)、成本高、至少千级洁净间
(3)多重UV胶键合专利来自美国考利达基因组股份有限公司
厂家3:
深圳真迈生物
Flowcell:
芯片结构:
1、16通道单分子测序芯片:基板表面硅烷修饰→SU8软光刻制备阳模→浇注PMDS胶→PMDS层打孔→表面修饰PMGI保护层→Plasma键合→保护层化学试剂清洗
2、4通道平面芯片:厚基板-中间层(点胶)-薄玻璃盖板-8-15um黑色油墨遮蔽层
3、4通道平面芯片:基板-中间层(双面胶)-盖板
4、高密度Patterned FC(SURSeq5000):第一盖板-粘接胶层-聚合物层-金属膜层-纳米孔基板-金属膜层-聚合物层-粘接胶层-第二盖板,CCD点胶键合
键合工艺:
1、PDMS等离子活化键合
2、双面胶键合
3、机械力压紧
4、刻蚀+CCD点胶键合
代表专利:
(1)CN105112290B-一种单分子测序芯片的制备方法-2015
(2)CN105154323B-一种单分子测序芯片-真迈生物-2015
(3)CN204874530U-一种单分子测序芯片-真迈生物-2015
(4)CN216639479U-中介层和芯片-真迈生物-2022
(5)CN219621176U-芯片-真迈生物-2022
(6)CN221062780U-芯片-真迈生物2023
(7)CN119161945A-芯片及其制备方法-2023-真迈生物最新的高通量FC(单面或双面纳米孔+点胶键合)
风险预警:
(1)PDMS-玻璃芯片一般用于微流控领域,不适合做测序芯片
(2)高密度Patterned FC(SURSeq5000)当上盖板、下盖板均刻蚀有纳米孔阵列时,整个FC簇密度非常高、数据量非常大(优势)
(3)点胶工艺成本高、良率不稳定
厂家4:
深圳赛陆医疗
深圳铭毅智造
上海交大
英国-Element Biosciences(元素生物)
Flowcell:
芯片结构:
1、Random FC:
2、4通道SO2微球芯片:
(1)工艺流程为:碱液超声清洗玻璃→上基板CVD硅烷修饰+有孔下基板CVD修饰钝化层→FC键合→荧光修饰SO2微球化学反应锚定
(2)化学修饰流程:羟基修饰→环氧硅烷修饰→SO2微球(氨基+叠氮基团)修饰(C=C双键点击化学)→两种不同荧光信号(罗丹明b和cy5)的荧光微球牢固的负载到芯片内,有利于测序
3、开放式纳米孔芯片(类似SNP芯片):开放式不封装
键合工艺:
1、双面胶键合,间隙区有隔热条
2、刻蚀+UV胶键合
代表专利:
(1)CN218131962U-微流控芯片-2022
(2)CN118222387A-测序芯片、测序系统及其测序方法-2024
(3)CN115850577B-一种高生物兼容的聚合物、芯片及其制备方法
(4)CN221223737U-用于测序芯片的厚度检测装置-2023
(5)CN117925388A-一种工程芯片的制备方法及工程芯片-2024
(6)CN118320875A-一种微流控芯片及其制备方法和应用
(7)CN108424844B-一种单分子测序芯片及其制备方法-上交-2018
(8)WO2024151556A1-Flow cell devices and use thereof-2006
风险预警:
(1)流道间隙区加工有隔热槽,工艺复杂难量产
厂家5:
广东达安基因
菲鹏生物
Flowcell:
芯片结构:
1、Random FC:
(1)基板(有孔玻璃)刻蚀有流道,盖板为平板,厚度似乎相同
(2)加工流程为:CVD修饰(WCA=81°)→PAM浸泡修饰(48°)→基板点胶→基板/盖板对准贴合→固化→Oligo修饰→质检→保存
键合工艺:
1、Asymtek X‑1010点胶机CCD点胶
代表专利:
(1)CN118048444A-测序芯片的制备方法-达安基因-2022
风险预警:
(1)点胶工艺限制条件太多,其中最重要一点是同一点胶工艺,不同硅烷修饰时(如APTMS和GPTMS)差别很大甚至NG
厂家6:
北京赛纳生物
Flowcell:
芯片结构:
1、Random FC:基板-中间层-盖板
2、Patterned FC:厚基板-UV胶层(≤50um)-薄盖板(刻蚀流道,≥50um)
键合工艺:
1、双面胶
2、围堰灌胶
3、分区修饰+自扩散灌胶
4、毛细作用灌胶(≤50um)
5、刻蚀+UV胶粘接+溢胶槽溢胶
代表专利:
(1)CN108060069B-基因测序芯片-2017
(2)CN108913590A-一种基因测序芯片及制作方法-2018
(3)CN210030701U-一种基因测序芯片-2019
(4)CN118726071A-一种基因测序芯片的密封方法-2023
(5)CN219077656U-一种基因测序芯片的封装治具系统-2023
(6)CN220597330U-用于流动池粘接的装置-键合夹具-2023
风险预警:
(1)刻蚀+溢胶槽+CCD点胶,用于点胶溢胶控制,工艺复杂,成本增加
(2)毛细作用点胶、分区修饰点胶缺陷较多(溢胶、气泡等)
文章来源
网络、新闻采访、专利等公开信息,仅用于学习
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二代
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测序
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